美國MKS INSTRUMENTS成立于1961年，作為半導體零部件的供應商，在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術獨到之處.美國MKS INSTRUMENTS電源、測量、控制和復雜氣體相關的工藝監控技術等改善了設備的完好率和產品成品率，提高了生產產量和產品性能．
MKS 是先進生產工藝控制設備供應商之一， 其產品廣泛地應用于各種半導體器件生產， 平板顯示器， 光學儲存介質， 玻璃鍍膜， 光電產品等生產設備及制藥和醫學成像設備。 MKS 前瞻性的創新開發， 推動其產品一直處于技術地位。 MKS 的電源， 測量， 控制和復雜氣體相關的工藝監控技術， 改善了設備完好率和產品成品率， 提高了生產產量和產品性能。
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按照真空計測量原理所利用的不同的物理機制，可將主要的真空計分為三大類，分別是利用力學性能、利用氣體動力學效應和利用帶電粒子效應的真空計。
利用力學性能的真空計典型的有波爾登規（Bourdon）和薄膜電容規；利用氣體動力學效應的典型真空計有皮拉尼（Pirani）電阻規和熱電偶規；利用帶電粒子效應的典型真空計有熱陰極電離規和冷陰極電離規。
真空計波爾登規（Bourdon）
 波爾登規 如右圖所示，細的銅管受氣體壓力不同會有舒展現象，會帶動杠桿和齒輪旋轉，使得指針指示在不同刻度上，即可讀出相應的氣壓值。
這種規的測量范圍一般在100Pa至1atm。